Iako već decenijama silicijum predstavlja osnovni materijal za izradu procesora, njegove fizičke mogućnosti su skoro iscrpljene jer stvaranje integralnog kola na procesoru manjem od 5 nanometara predstavlja problem. Da li će Murov zakon o integralnom kolu preživeti? Naučnici sa Univerziteta u Stanfordu imaju rešenje: silicijum treba pojačati materijalima koji nadmašuju njegove osobine. Pronašli su dva poluprovodnika: hafnijum-diselenid i cirkonijum-diselenid koji mogu biti izuzetno tanki (širine samo tri atoma) i koji imaju mnogo bolju samoizolaciju nego silicijum. Od njih se mogu napraviti tranzistori koji su deset puta manji od najmanjeg silicijumskog tranzistora – integralno kolo od 5 nanometara pravi je džin u poređenju sa onim koji se može napraviti od pomenutih materijala. Naučnici ističu da će silicijum i dalje biti neophodan jer kombinacija novih materijala sa silicijumom može dovesti do stvaranja mnogo kompleksnijih procesora, mnogo dužeg veka trajanja baterije i drugih prednosti koje se javljaju kad se smanjuje veličina tranzistora. Murov zakon ne može večno da traje (zakoni fizike mu to neće dozvoliti), ali ovakvi materijali mogu odložiti neizbežno za nekoliko godina. Kao i kod svih poluprovodnika, najteže je predstaviti ih tržištu. Tim sa Univerziteta u Stanfordu treba prvenstveno da unapredi vezu između tranzistora i integralnih kola kao pouzdanost izolacije. I, konačno, treba razviti punu proizvodnju integralnih kola. Za to će biti potrebno nekoliko godina, a do tada će se proizvodnja integralnih suočavati sa ozbiljnim poteškoćama.
4490-super-tanki-poluprovodnik-odlozio-smrt-silicijuma